Entwickler
Welcher Entwickler für welchen Fotolack?
Zunächst sollten Sie klären, ob Sie einen metallionenfreien (MIF) oder einen metallionenhaltigen (MIC) Entwickler benötigen. Die meisten MIF Entwickler sind sogenannte "ready to use"-Produkte welche ohne Verdünnung angewendet werden. Typische MIC Entwickler werden meist als Konzentrate angeboten, die vor der Verwendung verdünnt werden müssen.
Metallionenfreie (MIF) Entwickler
AZ® 326 MIF
(Tech. Datenblatt als PDF)
AZ® 726 MIF
(Tech. Datenblatt als PDF)
AZ® 826 MIF
(Tech. Datenblatt als PDF)
Metallionenhaltige (MIC) Entwickler
AZ® 400K
(Tech. Datenblatt als PDF)
AZ® 351B Developer (Tech. Datenblatt als PDF)
AZ® 303 Developer (Tech. Datenblatt als PDF)
AZ® Developer (Tech. Datenblatt als
PDF)
AZ® 326 MIF Developer
AZ® 326 MIF Developer ist 2.38 % TMAH (Tetramethylammoniumhydroxid)
in H2O.
Mehr Informationen dazu: AZ® MIF_Developer.pdf
AZ® 726 MIF Developer
AZ® 726 MIF Developer besteht aus einer 2.38 % TMAH-Lösung in H2O. Zusätzlich enthält dieser Entwickler Netzmitteln (Surfactants) für eine bessere und homogenere Benetzung.
Mehr Informationen dazu: AZ® MIF_DEVELOPER.pdf
AZ® 826MIF
AZ® 826 MIF besteht aus einer 2.38 % TMAH-Lösung in
H2O. Neben Netzmitteln enthält dieser Entwickler zusätzlich sogenannte "scum-Remover". Dieses Additiv sorgt für eine rückstandsfreie Entwicklung schwerlöslicher Resistkomponenten. Allerdings erhöht dieses Additiv auch etwas die Dunkelabtragsrate.
Mehr Informationen dazu: AZ® MIF_Entwickler.pdf
AZ® Developer
AZ® Developer wurde auf minimalen Aluminiumabtrag optimiert und basiert auf Natriummetasilikat. Typischerweise wird dieser Entwickler in einer 1:1 Verdünnung für hohen Kontrast oder auch konzentriert angewandt für hohen Durchsatz. Die Dunkelabtragsrate ist etwas höher als bei den anderen Entwicklern.
Mehr Informationen dazu: AZ® Entwickler.pdf
AZ® 351B Developer
AZ® 351B Developer basiert auf einer gepufferten Natriumhydroxid Lösung und eignet sich vor allem für unsere dünneren Fotoresiste (z.B. AZ 1500-Serie). Er wird tyischerweise in einer 1:3 bis 1:4 Verdünnung mit Wasser angewandt.
Mehr Informationen dazu: AZ® 351B Developer.pdf
AZ® 400K Developer
AZ® 400K Developer basiert auf einer gepufferten Kaliumhydroxidlösung und eignet sich vor allem für unsere dickeren Fotoresiste (z.B. 4500 oder 9200 Serien). Er wird tyischerweise in einer 1:3 bis 1:4 Verdünnung mit Wasser angewandt.
Mehr Informationen dazu: AZ® 400K (MIC).pdf
AZ® 303 (MIC)
AZ® 303 (MIC) basiert auf einer gepufferten Natrium- und Kaliumhydroxidlösung und ist gut geeignet für den Resist AZ 111XFS und AZ nLOf 2000.
Mehr Informationen dazu: AZ® 303 (MIC).pdf
®AZ, das AZ Logo, BARLi, Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.
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