MicroChemicals GmbH

Fotoresiste, Hilfsstoffe, Säuren/Basen, Lösungsmittel
und technische Unterstützung
im Bereich Mikrostrukturierung und Lithografie

 

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MIF Entwickler (metal-ion-free)

  

AZ® 326MIF
AZ® 326 MIF Developer ist 2.38 % TMAH (Tetramethylammoniumhydroxid) in H2O.
 
Mehr Informationen dazu: AZ® MIF_Developer.pdf

AZ® 726MIF
AZ® 726 MIF Developer besteht aus einer 2.38 % TMAH-Lösung in H2O. Zusätzlich enthält dieser Entwickler Netzmitteln (Surfactants) für eine bessere und homogenere Benetzung.
 
Mehr Informationen dazu: AZ® MIF_DEVELOPER.pdf

AZ® 826MIF
AZ® 826 MIF besteht aus einer 2.38 % TMAH-Lösung in H2O. Neben Netzmitteln enthält dieser Entwickler zusätzlich sogenannte "scum-Remover". Dieses Additiv sorgt für eine rückstandsfreie Entwicklung schwerlöslicher Resistkomponenten. Allerdings erhöht dieses Additiv auch etwas die Dunkelabtragsrate.

Mehr Informationen dazu: AZ® MIF_Entwickler.pdf

 

 

 

 

  
®AZ, das AZ Logo, BARLi, Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.

Übersicht Entwickler
Kompatibilität mit Reisisten
Einheiten und Größen
 

Metallionenfreie Entwickler
AZ® 326MIF 
AZ® 726MIF 
AZ® 826MIF 
 

Metallionenhaltige Entwickler
AZ® 400K 
AZ® 351B 
AZ® 303 
AZ® Entwickler 

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