MIC Entwickler (metal-ion containing)
AZ® Entwickler
(MIC)
AZ® Developer wurde auf minimalen Aluminiumabtrag optimiert und basiert auf Natriummetasilikat. Typischerweise wird dieser Entwickler in einer 1:1 Verdünnung für hohen Kontrast oder auch konzentriert angewandt für hohen Durchsatz. Die Dunkelabtragsrate ist etwas höher als bei den anderen Entwicklern.
Mehr Informationen dazu: AZ® Entwickler.pdf
AZ® 351B
(MIC)
AZ® 351B Developer basiert auf einer gepufferten Natriumhydroxid Lösung und eignet sich vor allem für unsere dünneren Fotoresiste (z.B. AZ 1500-Serie). Er wird tyischerweise in einer 1:3 bis 1:4 Verdünnung mit Wasser angewandt.
Mehr Informationen dazu: AZ® 351B Developer.pdf
AZ® 400K
(MIC)
AZ® 400K Developer basiert auf einer gepufferten Kaliumhydroxidlösung und eignet sich vor allem für unsere dickeren Fotoresiste (z.B. 4500 oder 9200 Serien). Er wird tyischerweise in einer 1:3 bis 1:4 Verdünnung mit Wasser angewandt.
Mehr Informationen dazu: AZ® 400K (MIC).pdf
AZ® 303 (MIC)
AZ® 303 (MIC) basiert auf einer gepufferten Natrium- und Kaliumhydroxidlösung und ist gut geeignet für den Resist AZ 111XFS und AZ nLOf 2000.
Mehr Informationen dazu: AZ® 303 (MIC).pdf
®AZ, das AZ Logo, BARLi, Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.
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