Positive Dicklacke, Fotoresiste
AZ 4533
(Tech. Datenblätter als PDF)
AZ 4562
(Tech. Datenblätter als PDF)
AZ 9260
(Tech. Datenblätter als PDF)
AZ 40 XT (Tech. Datenblätter als PDF)
AZ 4500 - Serie Fotoresist
Dicklacke für mittlere Auflösung.
Schichtdicke: 2.5 ... 10 μm, bis 100 μm über Mehrfachbelackung
UV-Empfindlichkeit: i-, h-, g-line (310 - 440 nm), breitband/monochromatisch
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2500 ml und 5 Liter
Generelle Informationen
AZ® 4533 und AZ® 4562 besitzen – verglichen mit Dünnlacken – eine geringere Fotoinitiator-Konzentration. Damit ist die Durchbelichtung auch dicker Lackschichten über
10 μm möglich. Falls aufgrund einer hohen Belichtungsintensität oder rauer Substrate
trotz optimierter Prozessfolge Blasenbildung beim Belichten auftritt oder ein größeres
Aspektverhältnis benötigt wird, empfiehlt sich als Alternative der Dicklack AZ® 9260.
Der dazu passende Entwickler
AZ® 400K 1:4 oder AZ® 826MIF wird (mit anderen Entwicklern sind Lackrückstände
möglich)
Mehr Informationen dazu: Fotoresist AZ
4500-series.pdf
AZ 9260 Fotoresist
Ein Dicklack für hohe Auflösung.
Schichtdicke: 3 ... 20 μm, bis 100 μm über Mehrfachbelackung möglich
UV-Empfindlichkeit: i- und h-line (310 - 410 nm), breitband/monochromatisch
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml und 3.78 L (Gallonen)
Generelle Informationen
Die Lacke der AZ® 9200 Serie besitzen verglichen mit den AZ® 4500 Dicklacken eine
noch geringere optische Absorption. Damit ist die Durchbelichtung auch sehr dicker
Lackschichten möglich. Dadurch und durch die fehlende Absorption bei h-line benötigt
die AZ® 9200 Serie eine höhere Belichtungsdosis und weist eine geringere
Entwicklungsrate unter sonst gleichen Bedingungen auf.
Falls geringere Schichtdicken erfordert
werden, empfiehlt sich eine Verdünnung
mit PGMEA = AZ® EBR Solvent.
Die folgenden Angaben zur Lackschichtdicke
beziehen sich auf 4.000 U/
min):
4.0 μm: 100 g AZ® 9260 + 13 g PGMEA
3.0 μm: 100 g AZ® 9260 + 23 g PGMEA
2.0 μm: 100 g AZ® 9260 + 42 g PGMEA
1.5 μm: 100 g AZ® 9260 + 55 g PGMEA
1.0 μm: 100 g AZ® 9260 + 88 g PGMEA
Der dazu passende Entwickler
AZ® 400K 1:4 oder AZ® 726MIF empfohlen
(AZ® 351B oder AZ® 326MIF/
826MIF sind möglich).
Bei sehr großen Lackschichtdicken von
mehreren 10 μm kann der AZ® 400K
als höher konzentrierte 1 : 3.5 ... 1 :
3.0 Verdünnung eingesetzt werden, um
die Entwicklungsdauer kurz zu halten.
Mehr Informationen dazu: Fotoresist AZ 9260.pdf
AZ® 40 XT
AZ® 40 Xt ist ein chemisch verstärkter Dicklack welcher sich exzellent für alle gängigen nass- und trockenchemischen Prozesse eignet.
- Senkrechte Lackprofile für Lackschichtdicken > 30 µm
- Exzellente Photospeed; hohe ENtwicklungsraten (kompatibel zu TMAH-Entwicklern)
- Kurze Prozesszeiteh, hoher Durchsatz
- Sehr gute Lackhaftung
- Überragende Eignung für DRIE Prozesse
- Kompatibel zu Kupfersubstraten, geeignet für die Goldgalvanik
- Mit Standard-Removern nasschemisch entfernbar
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Mehr Informationen dazu: Fotoresist AZ 40 XT.pdf
®AZ, das AZ Logo, BARLi , Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.
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