AZ 111 XFS Photoresist
AZ 111 XFS
Schichtdicke: 1 µm bei 4000 u/min
UV-Empfindlichkeit: i, h-line (310-420nm)
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2500 ml und 5 Liter
Generelle Informationen
AZ® 111 XFS ist ein spezieller "low-cost" Fotoresist mit einer sehr guten Haftung auf vielen Oberfächen. Er ist gedacht für einfache naßchemische Ätzprozesse mit einer geringen Anforderung an die Auflösung. Mit einer Schichtdicke von ca. 1 µm bei 4000 u/min zählt er zu unseren cross-over Dünnlacken.
Der dazu passende Entwickler
Dieser Resist erfordert einen speziellen Entwickler, den AZ 303 Developer der 1:3 - 1:4 angewandt werden sollte.
Mehr Inforamtionen dazu: Fotoresist AZ 111XFS.pdf
®AZ, das AZ Logo, BARLi , Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.
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