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AZ 1500 Serie Fotoresiste

AZ 1500 Serie Fotoresiste
Positive Dünnlacke für das Nassätzen

Schichtdicke: 0.5 ... 2.5 μm
UV-Empfindlichkeit: i-, h-, g-line (310 - 440 nm), breitband/monochromatisch
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2500 ml und 5 Liter

Generelle Informationen
Die Fotolacke der AZ® 1500-er Familie weisen aufgrund ihrer Harzstruktur eine für nasschem. Ätzen optimierte Haftung zum Substrat auf, eignen sich jedoch als Standardlack grundsätzlich für alle lithographischen Prozesse. Die erzielbare laterale Auflösung beträgt je nach Lackschichtdicke bis unter 1 μm.

AZ® 1505 und AZ® 1518 decken als Standardlacke den Schichtdickenbereich von
0.5 bis 2.5 μm ab. Soll dieser Schichtdickenbereich mit nur einem Lack erzielt werden, ist dies über eine entsprechende Verdünnung des AZ® 1518 möglich (PGMEA =
AZ® EBR Solvent):
AZ® 1515 (nominell 1.5 μm bei 4000 U/min): 100 g AZ® 1518 + 5,16 g PGMEA
AZ® 1512 (nominell 1.2 μm bei 4000 U/min): 100 g AZ® 1518 + 14,67 g PGMEA
AZ® 1505 (nominell 0.5 μm bei 4000 U/min): 100 g AZ® 1518 + 70,3 g PGMEA
AZ® 1514H deckt den Schichtdickenbereich von 1.0 bis 2.0 μm ab und weist - v. a.
auf Metallen - eine verbesserte Haftung auf.
AZ® 1512HS deckt den Schichtdickenbereich von 1.0 bis 2.0 μm ab. Neben der wie
beim AZ® 1514H erhöhten Haftung besitzt AZ® 1512HS eine höhere Photospeed.

Der dazu passende Entwickler
AZ® 351B 1:4 oder AZ® 726MIF empfohlen; AZ® 400K 1:4, AZ® 326MIF möglich
 
For further information please refer to the datasheet: Fotoresist AZ 1500 - Serie.pdf

^{®AZ, das AZ Logo, BARLi , Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.}