Fotoresiste, Hilfsstoffe, Säuren/Basen, Lösungsmittel
und technische Unterstützung
im Bereich Mikrostrukturierung und Lithografie

 

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Fotoresiste
Entwickler
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Säuren/Basen
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Lösungsmitel
Gelbfolie

AZ 5214E Fotoresist

 

AZ 5214E Fotoresist
Umkehrlack für hohe Auflösungen

Schichtdicke: 1.0 ... 2.0 μm
UV-Empfindlichkeit: i- und h-line (310 - 420 nm), breitband/monochromatisch
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2500 ml und 5 Liter

Generelle Informationen
AZ® 5214E ist ein Umkehrlack, welcher in den zuerst belichteten Bereichen quervernetzt
und deshalb nach dem Entwickeln eine hohe chemische und thermische Beständigkeit für z.B Lift-off aufweist. Dieser Lack ist nicht g-line empfindlich. Wir bieten hiervon auch Kleingebinde (250, 500 und 1000 ml) an.

Der dazu passende Entwickler
Empfohlen wird AZ® 351B 1:4 oder AZ® 726MIF
 
Mehr Informationen dazu: Fotoresist AZ 5214E.pdf 

  

  

 

 

 

 

 


®AZ, das AZ Logo, BARLi , Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.

Übersicht Fotoresiste
Einheiten und Größen  

Positiv, dünn  
AZ® 111 XFS 
AZ® 1505 
AZ® 1512HS 
AZ® 1514H 
AZ® 1518 
AZ® 6612 
AZ® 6624 
AZ® 6632
AZ® MiR 701
AZ® ECI 3027

Positiv, dick 
AZ® 4533
AZ® 4562 
AZ® 9260
AZ® 40 XT  

 

Negative Resiste 
AZ® nLof 2070
AZ® 15 nXT 
AZ® 125 nXT
 

Image Reversal/Lift-off
AZ® 5214E 
TI 35E 
TI 35ES 
TI xLift  
AZ®nLof 2070
 

Andere Fotoresiste
AZ® 520D 
AZ®4999 
TI Spray 
PL 177 
AZ® Aquatar
AZ® Barli II
 

Andere Resisttypen  
Lacke für Galvanik
Lacke für e-Beam
Schutzlack
Sprühlacke
Leiterplattenlack
Antireflexionsbeschichtung

Technische Datenblätter
Sicherheitsdatenblätter
Broschüre 2008/2009
Anwendungshinweise

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