Fotoresiste, Hilfsstoffe, Säuren/Basen, Lösungsmittel
und technische Unterstützung
im Bereich Mikrostrukturierung und Lithografie

 

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Fotoresiste
Entwickler
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Säuren/Basen
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Lösungsmitel
Gelbfolie

AZ 6600 Serie Fotoresiste

 

AZ 6600 Series
Thermisch stabile Dünnlacke

Schichtdicke: 1.0 ... 4.5 μm
UV-Empfindlichkeit: i-, h-, g-line (310 - 440 nm), breitband/monochromatisch
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2500 ml und 5 Liter

Generelle Informationen
Die Fotolacke der AZ® 6600-er Familie weisen aufgrund ihrer Harzstruktur eine für Trockenätzen, Metallisieren (Aufdampfen, Sputtern) oder – falls notwendig – für einen
Hardbake eine auf ca. 130°C erhöhte thermische Stabilität gegen Verfließen auf. Die erzielbare laterale Auflösung beträgt je nach Schichtdicke bis unter 1 μm.
AZ® 6612 und AZ® 6632 decken mit angepassten Schleuderprofilen den Schichtdickenbereich von ca. 1.0 bis 4.5 μm ab. Soll dieser Bereich mit nur einem Lack erzielt werden, ist dies über eine entsprechende Verdünnung des AZ® 6632 möglich (PGMEA = AZ® EBR Solvent):
AZ® 6624 (nominell 2.4 μm bei 4000 U/min): 100 g AZ® 6632 + 5,74 g PGMEA
AZ® 6618 (nominell 1.8 μm bei 4000 U/min): 100 g AZ® 6632 + 14,7 g PGMEA
AZ® 6615 (nominell 1.5 μm bei 4000 U/min): 100 g AZ® 6632 + 20,0 g PGMEA
AZ® 6612 (nominell 1.2 μm bei 4000 U/min): 100 g AZ® 6632 + 29,6 g PGMEA
Bei noch stärkerer Verdünnung neigen die stark fotoinitiatorhaltigen Lacke der 6600 Serie zu Partikelbildung (Abschnitt 28.1).

Der dazu passende Entwickler
AZ® 351B 1:4 oder AZ® 726MIF optimal / AZ® 400K 1:4, AZ® 326MIF möglich
  
Mehr Informationen dazu: Photoresist AZ 6600 - Serie.pdf


®AZ, das AZ Logo, BARLi , Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.

Übersicht Fotoresiste
Einheiten und Größen  

Positiv, dünn  
AZ® 111 XFS 
AZ® 1505 
AZ® 1512HS 
AZ® 1514H 
AZ® 1518 
AZ® 6612 
AZ® 6624 
AZ® 6632
AZ® MiR 701
AZ® ECI 3027

Positiv, dick 
AZ® 4533
AZ® 4562 
AZ® 9260
AZ® 40 XT  

 

Negative Resiste 
AZ® nLof 2070
AZ® 15 nXT 
AZ® 125 nXT
 

Image Reversal/Lift-off
AZ® 5214E 
TI 35E 
TI 35ES 
TI xLift  
AZ®nLof 2070
 

Andere Fotoresiste
AZ® 520D 
AZ®4999 
TI Spray 
PL 177 
AZ® Aquatar
AZ® Barli II
 

Andere Resisttypen  
Lacke für Galvanik
Lacke für e-Beam
Schutzlack
Sprühlacke
Leiterplattenlack
Antireflexionsbeschichtung

Technische Datenblätter
Sicherheitsdatenblätter
Broschüre 2008/2009
Anwendungshinweise

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