Fotoresiste, Hilfsstoffe, Säuren/Basen, Lösungsmittel
und technische Unterstützung
im Bereich Mikrostrukturierung und Lithografie

  

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Fotoresiste
Entwickler
Remover/Stripper
Verdünner/EBR
Haftvermittler
Säuren/Basen
Ätzmischungen
Lösungsmitel
Gelbfolie

Lacke für e-Beam Photoresiste

 

AZ nLOF 2070 e-beam-grade 

Mehr Informationen dazu:Photoresist AZ nLof 2070 e-beam-grade.pdf


 



®AZ, das AZ Logo, BARLi , Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.

Übersicht Fotoresiste
Einheiten und Größen  

Positiv, dünn  
AZ® 111 XFS 
AZ® 1505 
AZ® 1512HS 
AZ® 1514H 
AZ® 1518 
AZ® 6612 
AZ® 6624 
AZ® 6632
AZ® MiR 701
AZ® ECI 3027

Positiv, dick 
 AZ® 4533
AZ® 4562 
AZ® 9260
AZ® 40 XT  
 

Negative Resiste 
 AZ® nLof 2070
AZ® 15 nXT 
AZ® 125 nXT
 

Image Reversal/Lift-off
 AZ® 5214E 
TI 35E 
TI 35ES 
TI xLift  
AZ®nLof 2070
 

Andere Fotoresiste
 AZ® 520D 
AZ®4999 
TI Spray 
PL 177 
AZ® Aquatar
AZ® Barli II
 

Andere Resisttypen  
Lacke für Galvanik
 Lacke für e-Beam 
Schutzlack
Sprühlacke
Leiterplattenlack
Antireflexionsbeschichtung

Technische Datenblätter
Sicherheitsdatenblätter
Broschüre 2008/2009
 Anwendungshinweise

Technischer Support
Interaktiver Support
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