Fotolacke, Hilfsstoffe, Säuren/Basen, Lösungsmittel
und technische Unterstützung
im Bereich Mikrostrukturierung und Lithografie

 

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Fotolacke
Tief-UV Fotolack
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Haftvermittler
Säuren/Basen
Ätzmischungen
Lösungsmittel
Gelbfolie
Wafer

AZ ECI 3027 Fotolack

 

AZ® ECI 3027 Fotolack 
Positiver Dünnlack

Schichtdicke: 0.7 µm - 3 µm
UV-Empfindlichkeit: i, h, g-line (310 - 440 nm)
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2500 ml und 5 Liter

Generelle Informationen
AZ ECI 3027 gehört zu der Familie der modernen, schnellen positiv Resisten mit mittlerer Schichtdicke und einem sehr hohen Auflösungspotential. Seine herausragende Haftung und gute thermische Beständigkeit qualifizieren ihn sowohl für das Trockenätzen wie auch für nasschemische Ätzprozesse. Es ist damit ein sehr universell einsetzbares Produkt mit einem sehr großen Prozessfenster.

Der dazu passende Entwickler
AZ 726 MIF, AZ 326 MIF ebenfalls geeignet ist der metallionenhaltige Entwickler AZ 351B.


Mehr Informationen dazu: Fotolack AZ ECI 3027.pdf



®AZ, das AZ Logo, BARLi , Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.

Übersicht Fotolacke
Einheiten und Größen  

Positiv, dünn  
AZ® 111 XFS 
AZ® 1505 
AZ® 1512HS 
AZ® 1514H 
AZ® 1518 
AZ® 6612 
AZ® 6624 
AZ® 6632
AZ® MiR 701
AZ® ECI 3027

Positiv, dick 
AZ® 4533
AZ® 4562 
AZ® 9260 
AZ® 40 XT
 

Negative Resiste 
AZ® nLof 2070
AZ® 15 nXT 
AZ® 125 nXT
 

Image Reversal/Lift-off
AZ® 5214E 
TI 35E 
TI 35ES 
TI xLift  
AZ®nLof 2070
 

Tief-UV Fotolacke
AZ® TX 1311
 

Andere Fotolacke
AZ® 520D 
AZ®4999 
TI Spray 
PL 177 
AZ® Aquatar
AZ® Barli II
 

Andere Resisttypen  
Lacke für Galvanik
Lacke für e-Beam
Schutzlack
Sprühlacke
Leiterplattenlack
Antireflexionsbeschichtung

Technische Datenblätter
Sicherheitsdatenblätter
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