AZ MiR 701 Photoresist
Positiver Dünnlack
Schichtdicke: 0.8 - 1.2 µm
UV-Empfindlichkeit: i, h, g-line (310-440 nm)
Gebindegrößen:250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2500 ml und 5 Liter
Generelle Information
AZ MiR 701 ist ein schneller und moderner Fotolack mit hohem Auflösungspotential. Bei einer Schichtdicke von ca. 1µm ist er für die Produktion von Strukturen bis hinab in den Bereich von 0.3 - 0.4 µm geeignet. Seine gute thermische Beständigkeit qualifizieren ihn besonders für moderne Trockenätzprozesse.
Der dazu passende Entwickler
AZ 726 MIF, AZ 326 MIF ebenfalls geeignet ist der metallionenhaltige Entwickler AZ 351B.
Mehr Informationen dazu: Fotoresist AZ MIR 701.pdf
®AZ, das AZ Logo, BARLi , Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.
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