Fotolacke, Hilfsstoffe, Säuren/Basen, Lösungsmittel
und technische Unterstützung
im Bereich Mikrostrukturierung und Lithografie

 

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Fotolacke
Tief-UV Fotolack
Entwickler
Remover/Stripper
Verdünner/EBR
Haftvermittler
Säuren/Basen
Ätzmischungen
Lösungsmittel
Gelbfolie
Wafer

PL 177 Fotolack

  

PL 177 Fotolack
Kostengünstiger positiver Fotolack für Leiterplattenanwendungen

Schichtdicke: 1 ... 10 μm (je nach Beschichtungsmethode)
UV-Empfindlichkeit: i-, h-, g-line (310 - 440 nm), breitband/monochromatisch
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2500 ml und 5 Liter

Generelle Informationen
PL177 ist ein positiver, flüssiger, low-cost, Fotolack für Leiterplattenanwendungen. Er kann mit verschiedenen Methoden aufgebracht werden: z.B. durch Aufschleudern, Sprühbelacken oder Tauchbeschichten. Der PL177 ist stark eingefärbt damit der Resist nach dem Aufbringen einfach auf Belackungsfehler hin inspiziert werden kann. Er ist beständig in vielen sauren bzw leicht alkalischen Ätz- und Galvanikbädern.

Der dazu passende Entwickler
AZ® Developer ebenfalls möglich sind AZ® 400K 1:4 oder AZ® 826MIF sowie Ansätze aus NaOH und KOH.

Mehr Informationen dazu: Photoresist AZ PL 177.pdf

  

 

 

 


®AZ, das AZ Logo, BARLi , Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.

Übersicht Fotolacke
Einheiten und Größen  

Positiv, dünn  
AZ® 111 XFS 
AZ® 1505 
AZ® 1512HS 
AZ® 1514H 
AZ® 1518 
AZ® 6612 
AZ® 6624 
AZ® 6632
AZ® MiR 701
AZ® ECI 3027

Positiv, dick 
AZ® 4533
AZ® 4562 
AZ® 9260
AZ® 40 XT  

 

Negative Resiste 
AZ® nLof 2070
AZ® 15 nXT 
AZ® 125 nXT
 

Image Reversal/Lift-off
AZ® 5214E 
TI 35E 
TI 35ES 
TI xLift  
AZ®nLof 2070
 

Tief-UV Fotolacke
AZ® TX 1311
 

Andere Fotolacke
AZ® 520D 
AZ®4999 
TI Spray 
PL 177 
AZ® Aquatar
AZ® Barli II
 

Andere Resisttypen  
Lacke für Galvanik
Lacke für e-Beam
Schutzlack
Sprühlacke
Leiterplattenlack
Antireflexionsbeschichtung

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Sicherheitsdatenblätter
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