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PL 177 Fotoresist

PL 177 Fotoresist
Kostengünstiger positiver Fotolack für Leiterplattenanwendungen

Schichtdicke: 1 ... 10 μm (je nach Beschichtungsmethode)
UV-Empfindlichkeit: i-, h-, g-line (310 - 440 nm), breitband/monochromatisch
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2500 ml und 5 Liter

Generelle Informationen
PL177 ist ein positiver, flüssiger, low-cost, Fotolack für Leiterplattenanwendungen. Er kann mit verschiedenen Methoden aufgebracht werden: z.B. durch Aufschleudern, Sprühbelacken oder Tauchbeschichten. Der PL177 ist stark eingefärbt damit der Resist nach dem Aufbringen einfach auf Belackungsfehler hin inspiziert werden kann. Er ist beständig in vielen sauren bzw leicht alkalischen Ätz- und Galvanikbädern.

Der dazu passende Entwickler
AZ® Developer ebenfalls möglich sind AZ® 400K 1:4 oder AZ® 826MIF sowie Ansätze aus NaOH und KOH.

Mehr Informationen dazu: Photoresist AZ PL 177.pdf

^{®AZ, das AZ Logo, BARLi , Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.}