TI 35E Fotoresist
TI
35E
Schichtdicke: 2.5 .. 4.0 µm
UV-Empfindlichkeit: i, h, and g-line (310 - 440 µm)
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2500 ml und 5 Liter
Generelle Informationen
TI 35 E ist ein image-reversal Resist der sich besonders für Anwendungen anbietet, bei denen sowohl nasschemisch geätzt werden muss aber mit der gleichen Lackmaske auch noch ein Lift off einer aufgebrachten Schicht durchgeführt werden soll.
Der dazu passende Entwickler
AZ 400K und AZ 826.
For further information Fotoresist
TI 35E
®AZ, das AZ Logo, BARLi , Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.
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