TI 35ES Fotoresist
TI
35ES
Umkehrlack für Lift-off
Schichtdicke: 2.5 ... 5 μm Gebindegrößen: ab 250 ml
UV-Empfindlichkeit: i-, h-, g-line (310 - 440 nm), breitband/monochromatisch
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2500 ml und 5 Liter
Generelle Informationen
Ein relativ großes Prozessfenster für unterschnittene Lackkanten sowie eine hohe
thermische Stabilität (Erweichungspunkt je nach Prozessführung > 130°C) erlauben
reproduzierbaren Liftoff auch dicker aufgedampfter oder gesputterter Schichten).
Der dazu passende Entwickler
AZ® 400K 1:4, AZ® 726MIF, AZ® 826MIF
Mehr Informationen dazu: Fotoresist
TI 35ES
®AZ, das AZ Logo, BARLi , Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.
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