Andere Fotolacke
Schutzlack
AZ 520D
(Tech. Datenblätter als PDF)
Spray Coating
Resists
AZ 4999 (Datasheet as
PDF)
TI Spray (Tech. Datenblätter als PDF)
Printed Circuit Board Resist
PL 177
(Tech. Datenblätter als PDF)
Antireflective Coatings (TARCs & BARCs)
AZ Aquatar
(TARC)
(Tech. Datenblätter als PDF)
AZ Barli
(BARC)
(Tech. Datenblätter als PDF)
Lacke für Galvanik
AZ 15 nXT (Tech. Datenblätter als PDF)
AZ nLOF 2070 (Tech. Datenblätter als PDF)
Lacke für e-Beam
AZ nLOF 2070 e-beam-grade (Tech. Datenblätter als PDF)
AZ® 15 nXT Fotolack - Neuer Lack für Galvanik
AZ® 15 nXT ist ein quervernetzender, Kupfer kompatibler Negativlack speziell optimiert für die Galvanik: Exzellente Lackhaftung, kein Unterwachsen der Lackschicht, senkrechte Lackprofile und eine breite Kompatibilität zu nahezu allen Galvanikbädern auch für Kupfer,
Nickel und Gold.
Empfindlichkeit: i-line
Entwickler: TMAH-basiert (AZ® 326/726/826 MIF)
AZ® 15 nXT Lackstege (Lackschichtdicke 10 μm)
Mehr Informationen dazu: Negativer Fotolack AZ 15nXT.pdf
AZ nLOF 2070
Thermisch stabiler Negativlack für Lift-off
Schichtdicke: 1.5 ... 15 μm (> 20 μm über Mehrfachbelackung möglich)
UV-Empfindlichkeit: i-line (ca. 330 ... 380 nm)
Gebindegrößen: 100 ml, 250 ml, 500 ml, 1.000 ml und 3.78 L (Gallonen)
Generelle Informationen
AZ® nLOF 2000 kennzeichnet eine Familie an Negativlacken, d. h. belichtete Bereiche
bleiben nach dem Entwickeln mit einem in Grenzen einstellbar ausgeprägten Unterschnitt
(negativem Profil) bestehen. Diese Eigenschaft zusammen mit seiner hohen Beständigkeit gegen thermisches Verfließen macht AZ® nLOF 2000 zu einem geeigneten Fotolack für Lift-off sowie generell für alle Prozesse, bei denen das Lackprofil auch bei hohen bis sehr hohen Temperaturen stabil bleiben muss.
Herausragende Eigenschaften
Sehr hohe thermische Beständigkeit: Kein Verfließen quervernetzter Lackschichten
bis über 250°C.
Hohe chemische Beständigkeit: Je nach Prozessführung beständig gegen viele organische Lösemittel und stark alkalische Medien (nicht jedoch für KOH Si-Ätzen!)
Der dazu passende Entwickler
AZ® 826MIF - bei anderen Entwicklern kann eine (unbeabsichtigt) teilweise quervernetzte
Lackoberfläche (Streulicht) den Entwicklungsstart verhindern oder verzögern
Strippen / Löslichkeit
NMP oder 10-20 %ige KOH sind zum Entfernen der Fotolackschicht sehr gut geeignet.
Selbst vollständig quervernetzte Schichten werden – je nach der Größe angewandter
Temperaturen – vom Substrat „gepeelt“.
Aceton löst unbelichteten AZ® nLOF, solange er Temperaturen nicht über 170°C ausgesetzt
wurde, relativ gut. Bei höheren Backtemperaturen bewirkt thermisches Quervernetzen der Lackschicht eine starke Abnahme der Löslichkeit. Belichteter und quervernetzter (PEB > 140°C) AZ® nLOF ist in Aceton unlöslich. Sind jedoch substratnahe Lackbereiche aufgrund der begrenzten Eindringtiefe von Licht beim Belichten noch nicht vollständig quervernetzt, kann Aceton dorthin diffundieren und die gesamte Lackschicht abheben.
AZ® 100 Remover ist aus dem gleichen Grund wie Aceton zum Strippen prozessierter Fotolackschichten nur bedingt geeignet.
22 µm AZ® nLOF 2070: Mittels Flutb e l i c h t u n g entwickelter S t r u k t u r e n (oberes Bild) lassen sich auch dicke Lackstrukturen, deren substratnahe Bereiche bei der ersten Belichtung nicht quervernetzt wurden, thermisch beständig machen (Bild oben).
Mehr Informationen dazu: Fotolack
AZ nLOF 2070.pdf
AZ 520D
nicht photosensitiver Schutzlack
Schichtdicke: 1.5 ... 3.0 µm
UV-Empfindlichkeit: Keine
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2500 ml und 5 Liter
Generelle Informationen:
AZ® PC 520 D ist eine kostengünstige Beschichtung für den Schutz von Oberflächen bei Prozessen wie Rückseitenläppen oder Rückseitenätzen. Sie basiert auf dem Novolak-Harz welches auch die Hauptkomponente unserer Fotolacke ist. Der Lack ist blau eingefärbt damit die Beschichtung einfach inspiziert werden kann. Er ist gegenüber vielen sauren und leicht alkalischen Ätzbädern stabil und kann in einer Dicke von ca. 2 µm aufgebracht werden.
Bitte beachten Sie, dass dieser Resist in KOH oder NaOH basierten Ätzen wie sie für das Siliciumätzen verwendet werden nicht stabil ist.
Im Datenblatt wird auch ein Produkt namens AZ 546D erwähnt. AZ 546D wird seit 2005 nicht mehr produziert und ist deshalb leider nicht mehr verfügbar.
Entfernt werden kann dieses Produkt mit den gleichen Strippern wie sie auch für unsere Fotolacke verwendet werden.
Mehr Informationen dazu: AZ
520_D PC.pdf
AZ 4999
Für Sprühbelackung optimierter Positivlack
AZ® 4999 ist ein g-, h- und i-line empfindlicher, für die Sprühbelackung
optimierter Positivlack.
Durch sein Absorptionsverhalten lässt er sich sowohl bei dünnen
als auch dicken (bis einige 10 μm) Lackschichtdicken prozessieren.
Gerne senden wir Ihnen bei Interesse weitere Informationen zu!
Mehr Informationen dazu: Fotolack
AZ 4999.pdf
TI Spray
Versprühbarer Image Reversal Resist
Schichtdicke: 0.5 ... 5 µm
UV-Empfindlichkeit: i-, h-, g-line (310-440nm)
Gebindegrößen: 250ml, 500ml, 1L, 2.5L und 5 Liter
Generelle Informationen
TI Spray Fotolack ist ein sprühbarer Image Reversal Resist, der sich je nach Prozessführung sowohl positiv als auch negativ strukturieren lässt. Er kann daher sowohl für das nasschemische Ätzen als auch für die sogenannte Lift-Off Technik eingesetzt werden.
Die Viskosität ist so eingestellt, dass er direkt in vielen Spraycoatern für eine Schichtdicke von 1-5µm eingesetzt werden kann.
Dazu passende Entwickler
AZ® 400K oder AZ® 826 MIF Developer (verlinken mit HTML)
Mehr Informationen dazu: Fotolack
MicroChemicals TI Spray
PL 177
PL 177 Fotolack
Kostengünstiger positiver Fotolack für Leiterplattenanwendungen
Schichtdicke: 1 ... 10 μm (je nach Beschichtungsmethode)
UV-Empfindlichkeit: i-, h-, g-line (310 - 440 nm), breitband/monochromatisch
Gebindegrößen: 250 ml, 500 ml, 1.000 ml, 2500 ml und 5 Liter
Generelle Informationen
PL177 ist ein positiver, flüssiger, low-cost, Fotolack für Leiterplattenanwendungen. Er kann mit verschiedenen Methoden aufgebracht werden: z.B. durch Aufschleudern, Sprühbelacken oder Tauchbeschichten. Der PL177 ist stark eingefärbt damit der Resist nach dem Aufbringen einfach auf Belackungsfehler hin inspiziert werden kann. Er ist beständig in vielen sauren bzw leicht alkalischen Ätz- und Galvanikbädern.
Der dazu passende Entwickler
AZ® Developer ebenfalls möglich sind AZ® 400K 1:4 oder AZ® 826MIF sowie Ansätze aus NaOH und KOH.
Mehr Informationen dazu: Fotolack AZ PL 177.pdf
AZ Aquatar (TARC)
AZ® Aquatar® is a top layer anti-reflective coating for
use with g- and i-line. AQUATAR® acts like an optical
coating at the interface photoresist/air and improves
image contrast.
Multiple reflections within the photoresist are also
suppressed, the result is generally a reduction of the
amplitude of the swing curve to 1/3rd. Application is
very simple: it is just spun on top of the photoresist,
no additional bake cycle is required and the standard
development cycle removes it.
This simple process reduces linewidth variation over
topography significantly, however does not suppress
reflective notching.
Mehr Informationen dazu: AZ
Aquatar.pdf
AZ Barli (BARC)
AZ® BARLi® - II ist eine Antireflexschicht, um die Reflexion zwischen Substrat und Fotolack zu minimieren.
Mehr Informationen dazu: AZ
Barli_II.pdf
®AZ, das AZ Logo, BARLi , Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.
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