MicroChemicals GmbH

Fotoresiste, Hilfsstoffe, Säuren/Basen, Lösungsmittel
und technische Unterstützung
im Bereich Mikrostrukturierung und Lithografie

 

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Fotoresiste
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Verdünner/EBR
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Säuren/Basen
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Lösungsmitel
Gelbfolie

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Adresse
MicroChemicals GmbH
Schillerstrasse 18
D-89077 Ulm
Deutschland

Fon +49 (0) 731  36080  409
Fax +49 (0) 731  36080  908
Info@MicroChemicals.de


Geschäftsführung
Dr.-Ing. Titus J. Rinke
Dr.-Ing. Christian Koch

Amtsgericht: Ulm HRB 4271

Umsatzsteuer-ID-Nr.: DE813168639

 

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 Produkte

Fotoresiste

Übersicht
Einheiten und Größen 

Positiv ,dünn  
AZ® 111 XFS 
AZ® 1505 
AZ® 1512HS 
AZ® 1514H 
AZ® 1518 
AZ® 6612 
AZ® 6624 
AZ® 6632
AZ® MiR 701  

Positiv ,dick 
AZ® 4533
AZ® 4562 
AZ® 9260 

Image Reversal/Lift-off
AZ® 5214E 
TI 35E 
TI 35ES 
TI xLift  

Andere Resisttypen  
Negativresist 
Protective Coating
Spray Coating Resist
Printed Circuit Board Resist
Antireflective Coating 

 

Entwickler

Übersicht/ Entwickler Kompatibilität mit Reisisten
Einheiten und Größen
 

MIF Entwickler
AZ® 326MIF 
AZ® 726MIF 
AZ® 826MIF 
 

MIC Entwickler
AZ® 400K 
AZ® 351B 
AZ® 303 
AZ® Entwickler 

 

Remover/Stripper

AZ 100 Remover
NMP

 

Verdünner/EBR

AZ EBR Solvent
AZ EBR 70/30

  

Haftvermittler

TI PRIME 
HMDS 

 

Säuren/Basen

Säuren
Basen
Andere Säuren und Basen

 

Ätzmischungen

Aluminium Etchant 
Chromium Etchant
Silicon Etchant

 

Lösungsmittel 

Acetone
Ethyl Lactate 
Isopropyl Alcohol
MEK 
Methanol
NMP
PGMEA/ EBR

 Gelblicht/Gelbfolie  

 

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