Neue Produkte
AZ® 40 XT
Neuer Dicklack
AZ® 40 Xt ist ein chemisch verstärkter Dicklack welcher sich exzellent für alle gängigen nass- und trockenchemischen Prozesse eignet.
- Senkrechte Lackprofile für Lackschichtdicken > 30 µm
- Exzellente Photospeed; hohe ENtwicklungsraten (kompatibel zu TMAH-Entwicklern)
- Kurze Prozesszeiteh, hoher Durchsatz
- Sehr gute Lackhaftung
- Überragende Eignung für DRIE Prozesse
- Kompatibel zu Kupfersubstraten, geeignet für die Goldgalvanik
- Mit Standard-Removern nasschemisch entfernbar
Mehr Informationen dazu: Fotoresist AZ 40 XT.pdf
AZ® 125 nXT
Neuer Negativlack
AZ® 125 nXT ist ein Negativlack für Schichtdicken bis über 100 µm bei gleichzeitig sehr hoher Flankensteilheit. Seine Quervernetzung und sehr gute Lackhaftung macht ihn in für alle üblichen Galvanik-Anwendungen stabil. Dieser Lack benötigt keinen post exposure bake oder Pausen zwischen den Prozessschritten, so dass sich die Prozessierung sogar noch einfacher als mit Positivlacken gestaltet.
- 30- 100 µm über Einfachbelackung
- Wässrig alkalisch entwickelbar (TMAH-basiert, z. B. mit AZ® 326/726/826 MIF)
- Sehr gute Lackhaftung, kein Unterwachsen der Lackstrukturen
- Kein post exposure bake, keine Wartezeiten zwischen Prozessschritten notwendig
- Kompatibel mit vielen Substratmaterialien wie Cu, Au, Ti, NiFe, GaAs, …
- Geeignet für nahezu alle üblichen Galvanik-Bädern für Cu, Ni, Au, Lötzinn, ...
- Nasschemisch entfernbar
Mehr Informationen dazu: AZ 125 nXT.pdf und Details zur Prozessierung AZ 125 nXT Prozessdetails.pdf
AZ® 15 nXT Fotoresist
Neuer Negativresist
AZ® 15 nXT ist ein quervernetzender, Kupfer kompatibler Negativlack speziell optimiert für die Galvanik: Exzellente Lackhaftung, kein Unterwachsen der Lackschicht, senkrechte Lackprofile und eine breite Kompatibilität zu nahezu allen Galvanikbädern auch für Kupfer,
Nickel und Gold.
Empfindlichkeit: i-line
Entwickler: TMAH-basiert (AZ® 326/726/826 MIF)
Remover: Z. B. mit AZ® Kwik Strip bei 70°C
AZ® 15 nXT Lackstege (Lackschichtdicke 10 μm)
Mehr Informationen dazu: Negativer Fotoresist AZ 15nXT.pdf
AZ ECI 3027 Fotoresist
Positiver Dünnlack
Schichtdicke: 0.7 µm - 3 µm
UV-Empfindlichkeit: i, h, g-line (310 - 440 nm)
Generelle Informationen
AZ® ECI 3027 gehört zu der Familie der modernen, schnellen positiv Resisten mit mittlerer Schichtdicke und einem sehr hohen Auflösungspotential. Seine herausragende Haftung und gute thermische Beständigkeit qualifizieren ihn sowohl für das Trockenätzen wie auch für nasschemische Ätzprozesse. Es ist damit ein sehr universell einsetzbares Produkt mit einem sehr großen Prozessfenster.
Der dazu passende Entwickler
AZ 726 MIF, AZ 326 MIF ebenfalls geeignet ist der metallionenhaltige Entwickler AZ 351B.
Mehr Informationen dazu: Photoresist AZ ECI 3027.pdf
Mehr Informationen zu Positiven Dünnlacken: Positive und dünne Fotoresisten
AZ Kwik Strip
Universeller Positivlackstripper
Kompatibel mit: Allen positiven und Umkehrlacken (image reversal Resiste) aus unserem Sortiment. Nicht kompatibel mit AZ nLof 2070.
Gebindegrößen: 1VE = 4 x 3,78 Liter (Einzelflaschen mit 3,78 Litern erhältlich)
Generelle Informationen
AZ® Kwik-Strip® ist ein Amin-freier, pH-neutraler und damit auch für alkalisch empfindliche
Substratmaterialien wie Aluminium, Kupfer und GaAs geeigneter Remover. Je nach
Quervernetzungsgrad der zu entfernenden Fotolackschicht kann die Anwendungstemperatur
von Raumtemperatur bis 90°C eingestellt werden.
AZ® Kwik-Strip® ist NMP-frei und nicht als Gefahrgut eingestuft.
Mehr Informationen dazu: AZ Kwik Strip.pdf
Mehr informationen zu Remover und Stripper: Remover and Stripper
Neuer Spray Coating Resist
zur Spühbelackung
AZ 4999
Für Sprühbelackung optimierter Positivlack
AZ® 4999 ist ein g-, h- und i-line empfindlicher, für die Sprühbelackung
optimierter Positivlack.
Durch sein Absorptionsverhalten lässt er sich sowohl bei dünnen
als auch dicken (bis einige 10 μm) Lackschichtdicken prozessieren.
Gerne senden wir Ihnen bei Interesse weitere Informationen zu!
Mehr Informationen dazu: Fotoresist
AZ 4999.pdf
Mehr Informationen zu neuen Sprühlacken: Spray Coating Fotoresist (Sprühlacke)
Alle unsere neuen Produkte im Überblick: Neue Produkte (PDF)
Neue Gebindegrößen
Neben den 250 ml und 1000 ml Gebinden können wir Ihnen nun auch auf Wunsch auch 500 ml Gebinde anbieten.
Mehr dazu unter Vertrieb und Gebindegrößen.
®AZ, the AZ logo, BARLi , Aquatar and Kallista are registered trademarks of AZ Electronic Materials.
|
