MicroChemicals GmbH

Fotoresiste, Hilfsstoffe, Säuren/Basen, Lösungsmittel
und technische Unterstützung
im Bereich Mikrostrukturierung und Lithografie

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Fotoresiste
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Remover/Stripper
Verdünner/EBR
Haftvermittler
Säuren/Basen
Ätzmischungen
Lösungsmitel
Gelbfolie

Technische Datenblätter / Fotoresiste und Hilfsstoffe

Fotoresiste	Hilfsstoffe
Allgemeine Einführung	Entwickler
AZ^® 111 XFS	Remover/Stripper
AZ^® 1505	Verdünner/EBR
AZ^® 1512 HS	Adhesion Promotion
AZ^® 1514 H	Säuren/Basen
AZ^® 1518	Etching Mixtures
AZ^® 4533	Lösungsmittel
AZ^® 4562
AZ^® 4999
AZ^® 5214 E
AZ^® 6612
AZ^® 6632
AZ^® 9260
AZ^® ECI 3027

PL^® 177
AZ^® MIR 701
AZ^® 15 nXT
AZ^® 125 nXT
AZ^® 40 XT
AZ^®nLOF 2070
AZ^®nLOF 2070 e-beam-grade
AZ^® 520 D Schutzlack

MicroChemicals TI 35 E
MicroChemicals TI 35 ES
MicroChemicals TI xLift
MicroChemicals TI Prime
MicroChemicals TI Spray

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Anwendungshinweise

Zusätzliche Anwendungshinweise (in deutsch)

Application Notes (in english)

^{^{®AZ, das AZ Logo, BARLi , Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.}}

Übersicht
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Säuren/Basen

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Säuren/Basen Mixtures

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Lösungsmittel

Zusätzliche Anwedungs- informationen (dt)

Application Notes (engl.)

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Broschüre 2008/2009
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