MicroChemicals GmbH

Fotolacke, Hilfsstoffe, Säuren/Basen, Lösungsmittel
und technische Unterstützung
im Bereich Mikrostrukturierung und Lithografie

 

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AZ 100 Remover

AZ 100 Remover
Universeller Positivlack-Stripper

Kompatibel mit: Alle positiv und image reversal Resiste aus unserem Sortiment. Nicht kompatibel mit AZ nLof 2070.
Gebindegrößen
: 1VE = 4 x 5 Liter (Einzelflaschen mit 5 Litern erhältlich)

Generelle Informationen
AZ® 100 Remover ist ein Universalstripper für Novolak-basierte Photoresistsysteme (gewöhnliche positiv Photoresiste) und basiert auf Lösungsmittel und einem Amin. AZ® 100 Remover hat unverdünnt angewandt einen geringen Abtrag an Aluminium. Durch die Verwendung von Ethanolamin ist das Gefährdungspotential gering. Der geringe Dampfdruck erlaubt die Verwendung bei hohen Temperaturen (bis zu 80°C) und er hat eine extrem hohe Effizienz (bis zu 3000 Wafer pro Liter) was kostendämpfend wirkt. Wenn kein Alumnium im Spiel ist, kann der Remover auch mit Wasser verdünnt angewandt werden.

Mehr Informationen dazu: AZ 100 Remover.pdf

 

 

 

  

 


®AZ, das AZ Logo, BARLi, Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.

Übersicht
 

AZ 100 Remover
DMSO Dimethylsulfoxid
NMP

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