Remover / Stripper
AZ Kwik Strip
Universeller Positivlack-Stripper
Kompatibel mit: Alle positiv und image reversal Resiste aus unserem Sortiment. Nicht kompatibel mit AZ nLof 2070.
Gebindegrößen: 1VE = 4 x 3,78 Liter (Einzelflaschen mit 3,78 Litern erhältlich)
Generelle Informationen
AZ® Kwik-Strip® ist ein Amin-freier, pH-neutraler und damit auch für alkalisch empfindliche
Substratmaterialien wie Aluminium, Kupfer und GaAs geeigneter Remover. Je nach
Quervernetzungsgrad der zu entfernenden Fotolackschicht kann die Anwendungstemperatur
von Raumtemperatur bis 90°C eingestellt werden.
AZ® Kwik-Strip® ist NMP-frei und nicht als Gefahrgut eingestuft.
Mehr Informationen dazu: AZ Kwik Strip.pdf
AZ 100 Remover
Universeller Positivlack-Stripper
Kompatibel mit: Alle positiv und image reversal Resiste aus unserem Sortiment. Nicht kompatibel mit AZ nLof 2070.
Gebindegrößen: 1VE = 4 x 5 Liter (Einzelflaschen mit 5 Litern erhältlich)
Generelle Informationen
AZ® 100 Remover ist ein Universalstripper für Novolak-basierte Photoresistsysteme (gewöhnliche positiv Photoresiste) und basiert auf Lösungsmittel und einem Amin. AZ® 100
Remover hat unverdünnt angewandt einen geringen Abtrag an Aluminium. Durch die Verwendung von Ethanolamin ist das Gefährdungspotential gering. Der geringe Dampfdruck erlaubt die Verwendung bei hohen Temperaturen (bis zu 80°C) und er hat eine extrem hohe Effizienz (bis zu 3000 Wafer pro Liter) was kostendämpfend wirkt. Wenn kein Alumnium im Spiel ist, kann der Remover auch mit Wasser verdünnt angewandt werden.
Mehr Informationen dazu: AZ
100 Remover.pdf
DMSO (Dimethylsulfoxid)
DMSO ist ein hervorragender Ersatz für das seit einiger Zeit als toxisch eingestufte NMP. Als Stripper und als Lift Off Medium hat DMSO hervorragende Eigenschaften und kann technisch gesehen als nicht toxische Alternative zum NMP angesehen werden. Mischungen mit Cyclopentanon oder mit MEK erhöhen noch die Leistung dieses Strippers.
Mehr Informationen dazu: DMSO Dimethylsulfoxid.pdf
NMP (1-methyl-2-pyrrolidone)
Kompatibel mit: Alle positiv und image reversal Resiste aus unserem Sortiment. Dieses Produkt ist auch für AZ nLof 2070 geeignet.
Gebindegrößen: 1VE = 6 x 2.5 Liter (Einzelflaschen mit 2.5 Litern erhältlich)
Generelle Informationen
NMP (1-Methyl-2-pyrrolidon) ist ein zum Entfernen von Fotolack-Schichten sehr gut geeignetes
Lösemittel. Seine Schwerentflammbarkeit und der sehr geringe Dampfdruck von NMP erlauben
ein Erhitzen auf 80°C, um auch hartnäckige Fotolack-Schichten entfernen zu können.
Mehr Informationen dazu: NMP.pdf
®AZ, das AZ Logo, BARLi , Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.
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