MicroChemicals GmbH

Fotolacke, Hilfsstoffe, Säuren/Basen, Lösungsmittel
und technische Unterstützung
im Bereich Mikrostrukturierung und Lithografie

 

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Fotolacke
Tief-UV Fotolack
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Remover/Stripper
Verdünner/EBR
Haftvermittler
Säuren/Basen
Ätzmischungen
Lösungsmittel
Gelbfolie
Wafer

Zusätzliche Anwedungsinformationen (dt.) 

 

Zusätzliche Anwendungsinformationen (dt.) als PDF
  
Anti-Reflexionsbeschichtungen für Fotolacke
Ätzen von Aluminium
Ätzen von Chrom
Ätzen von Gold
Aufschleudern von Fotolacken
Backschritte in der Fotolackprozessierung
Belackungsverfahren für Fotolacke
Belichten von Fotolack
Dicklackprozessierung von Fotolacken
Entfernen von Fotolack-Schichten
Entwickeln von Fotolack
Fotolacke, Entwickler und Remover
Grauton-Lithografie
(Schlechte) Lackhaftung
Galvanik mit Fotolack-Masken
Hochauflösende Fotolack-Prozessierung
Lagerung, Alterung, Umfüllung und Verdünnung von Fotolacken
Lift-off Prozesse mit Fotolacken
Lithografie Trouble-Shooter
Lösemittel: Theorie und Anwendung
Nasschemisches Ätzen
Nasschemisches Ätzen von Silizium
Optische Parameter von Fotolacken
Physik und Chemie von AZ®/TI Fotolacken
Prozessoptimierung/-einführung
Prozessierung von Umkehrlacken
Prozessierung von AZ nLOF 20xx
Reflow von Fotolacken
Rehydrierung von Fotolacken
Softbake von Fotolackschichten
Sprühbelackung
Sprühbelackung von Fotolacken
Substratreinigung und Haftvermittlung
Tauchbeschichtung von Fotolacken

  

 

  

  

 

 
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Zusätzliche Anwedungs- informationen (dt.)

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