MicroChemicals GmbH

Fotoresiste, Ancillaries, Säuren/Basen, Lösungsmittel, and Technical Support
for all Stages of MicroStructuring and Lithography

 

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Fotoresiste
Entwickler
Remover/Stripper
Verdünner/EBR
Haftvermittler
Säuren/Basen
Ätzmischungen
Lösungsmittel 

Zusätzliche Anwedungsinformationen (dt.) 

 

Zusätzliche Anwendungsinformationen (dt.) als PDF
  
Anti-Reflexionsbeschichtungen für Fotolacke
Ätzen von Aluminium
Ätzen von Chrom
Ätzen von Gold
Aufschleudern von Fotolacken
Backschritte in der Fotolackprozessierung
Belackungsverfahren für Fotolacke
Belichten von Fotolack
Dicklackprozessierung von Fotolacken
Entfernen von Fotolack-Schichten
Entwickeln von Fotolack
Fotolacke, Entwickler und Remover
Grauton-Lithografie
(Schlechte) Lackhaftung
Galvanik mit Fotolack-Masken
Hochauflösende Fotolack-Prozessierung
Lift-off Prozesse mit Fotolacken
Lithografie Trouble-Shooter
Lösemittel: Theorie und Anwendung
Nasschemisches Ätzen
Nasschemisches Ätzen von Silizium
Optische Parameter von Fotolacken
Physik und Chemie von AZ®/TI Fotolacken
Prozessoptimierung/-einführung
Prozessierung von Umkehrlacken
Reflow von Fotolacken
Rehydrierung von Fotolacken
Softbake von Fotolackschichten
Sprühbelackung
Sprühbelackung von Fotolacken
Substratreinigung und Haftvermittlung
Tauchbeschichtung von Fotolacken

  

 

  

  

 

 
®AZ, das AZ Logo, BARLi , Aquatar und Kallista sind eingetragene Markenzeichen der Firma AZ Electronic Materials.

Zusätzliche Anwedungs- informationen (dt.)

Application Notes (engl.)

Technische Datenblätter
Sicherheitsdatenblätter
Broschüre 2008/2009
 Anwendungshinweise

Technischer Support
Interaktiver Support
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