Merck Performance Materials GmbH

AZ P4K-AP Beschichtung - 3.785L

AZ® P4K-AP is a cost-effective coating for the protection of device surfaces during operations.
Die Preise sind nach Anmeldung sichtbar.

Sofort verfügbar, Versandfertig in ca.: 3-4 Tage

Bottle size
Schicken Sie uns eine Anfrage bei Fragen zu Artikeln, zur Abnahmemenge, Lieferzeit oder bei einer Musteranfragen!
Produktnummer: 10P4KAP
Hersteller: Merck Performance Materials GmbH
Produktinformationen "AZ P4K-AP Beschichtung - 3.785L"

AZ® P4K-AP Coating

Schutzbeschichtung

Allgemeine Informationen

AZ® P4K-AP ist eine kosteneffiziente Beschichtung zum Schutz von Geräteoberflächen bei Verfahren wie Back-Lap oder Backside Etch. Sie basiert auf Novolak-Harz und ist gegen die meisten Ätzmittel beständig. Die Dicke dieser Beschichtung beträgt 6,8 µm bei einer Schleuderdrehzahl von 4000 U/min. Bitte beachte, dass die Schutzbeschichtung AZ® P4K-AP in KOH-Ätzmitteln, die typischerweise zum Ätzen von Silizium verwendet werden, nicht stabil ist.

Produkt-Eigenschaften

AZ® P4K-AP ist eine Mischung aus Harz- und Lösungsmittelkomponenten, die typisch für fertig formulierte Photoresists sind. Das AZ® P4K-AP Protective Coating schließt die photoaktive Komponente eines vollständig formulierten Fotolack aus, wodurch Material- und Qualitätssicherungskosten für Anwendungen entfallen, bei denen eine photolithographische Leistung nicht erforderlich ist.

AZ® P4K-AP verwendet die gleichen Grundmaterialien wie der Industriestandard AZ® P4620 Fotolack. Es bietet:

  • Hervorragende Haftung auf einer Vielzahl von Substraten
  • Kompatibel mit vielen Nasschemikalien, sowohl zum Ätzen als auch zum Beschichten
  • Gute Beschichtungseigenschaften
  • Standard Fotolack Beschichtungsprozesse werden verwendet

Das AZ® P4K-AP kann verwendet werden für:

  • Trockenen Ätzprozessen
  • Nass-Ätzverfahren
  • Galvanischen Prozessen

Das AZ® P4K-AP wird in den üblichen Nass- oder Trockenätzverfahren Fotolack entfernt/abgeschält.

Developer

AZ® P4K-AP ist kein Fotolack, daher ist kein Developer erforderlich.

Entferner

AZ® P4K-AP kann mit allen gängigen Fotolack Abbeizmitteln entfernt werden, wie z. B.: Aceton, alkalische Lösungen, AZ® 100 Remover, DMSO, AZ® 920 Remover und TechniStrip P1316.

Ausdünnen/Randwulstentfernung

Wir empfehlen zum Verdünnen und Entfernen von Randwülsten PGMEA und AZ® EBR Solvent.

Weitere Informationen

MSDS:
Sicherheitsdatenblatt AZ® P4K-AP Fotolack englisch
Sicherheitsdatenblatt AZ® P4K-AP Fotolack deutsch

TDS:
Technisches Datenblatt AZ® P4K-AP Fotolack englisch

Anwendungshinweise:
Weitere Informationen über Fotolack Verarbeitung

Chemically amplified: no
Film thickness: 5.0 – 15.0 µm
Film thickness range: thick (> 5.1µm)
High thermal stability: no

Remover

Acetone MC - 2.50 l - ULSI - EUD/EVE!
MACU1025
Bottle size: 2.50 l | Hersteller: MicroChemicals GmbH | Purity: ULSI
Acetone MC - 5.00 l - ULSI - EUD/EVE!
MACU1050
Bottle size: 5.00 l | Hersteller: MicroChemicals GmbH | Purity: ULSI